磁控濺射是物理氣相沉積（jī）（Physical Vapor Deposition，PVD）的一種,磁控濺射通過在靶（bǎ）陰極表（biǎo）麵引入磁場，利（lì）用磁（cí）場對帶電粒子（zǐ）的約束來（lái）提高等離子體（tǐ）密度以增加濺射率（lǜ）。 　　…

真空鍍（dù）膜電源 是一種由物理方法產生（shēng）薄膜材料的技術（shù），在真空室內材料的原子從加（jiā）熱源離析出來打到被鍍物（wù）體的表麵上。 　　1．在（zài）真空鍍膜機運（yùn）轉正常情況下，開（kāi）動（dòng）真空鍍（dù）膜機時，必須先開水管，工作中應隨時…