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磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種,磁控濺射通過在靶陰極表麵引入磁場,利用磁場對帶電粒(lì)子的約束來提高等離子體密(mì)度以增加濺射率。
磁控濺射鍍膜工藝在日常操作(zuò)過程中有哪些常見的故障呢?
磁控濺射鍍膜常見故障及解決辦法
無法起輝
(1)直流電源故障,檢查直流電源;
(2)氬氣進氣量小,檢查氬氣流量計或加大氬氣進氣量;
(3)真(zhēn)空室清潔度不夠,清潔(jié)真空室;
(4)靶材絕(jué)緣度不夠,檢(jiǎn)查靶是否與(yǔ)地短路,在通水的情況(kuàng)下,對地電阻(zǔ)應該在 50kΩ以上;
(5)磁場強度不夠,檢查永磁(cí)體(tǐ)是否消磁;
(6)真空度(dù)太差,檢查真空係統。
輝光不穩
(1)電壓電流不穩,檢查電源;
(2)真空室壓力不穩,檢查氬氣進氣量及真空係統;
(3)電纜故障,檢查電纜是否連(lián)接良好。
成膜質量差
(1)基(jī)片表麵清潔度差,清潔基片表麵;
(2)真空室清潔度差,清潔真空室(shì);
(3)基片溫度過大(dà)或過小,檢查溫控係統,校準熱電(diàn)偶;
(4)真空室壓力過(guò)大,檢查真(zhēn)空係統;
(5)濺射功率設置不當,檢查直流電源,設置何事的(de)設定功率(lǜ)。
濺射速率低
(1)氬氣進氣量過大或過(guò)小,觀察輝光(guāng)顏色可以判定氬氣是過大還是過小,據此調整氬氣進氣量;檢修流量計;
(2)靶材過(guò)熱,檢查冷卻水流(liú)量;
(3)檢查永(yǒng)磁體是否消磁。
標簽:直流磁控濺射電源
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