詳細（xì）為大家介紹真空鍍膜應用的主要幾種方法

真空鍍膜應用是真空應用中的一個（gè）大分支，在光學、電子學、理化儀器（qì）、包裝、機械以及（jí）表麵處理技（jì）術等眾多方麵有著十分廣泛（fàn）的應（yīng）用。為了讓大（dà）家更詳細的了解真空鍍膜的應用

　　真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及（jí）隨後凝結的辦法，在金屬、玻璃（lí）、陶瓷、半（bàn）導體以及塑料件等（děng）物（wù）體上鍍上金屬（shǔ）薄膜或者是覆蓋層。相對於傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用（yòng）屬於一種幹式鍍膜，它（tā）的主要方法包括以下幾種：

　　真空蒸鍍

　　其（qí）原理（lǐ）是在真空條件（jiàn）下，用蒸發器加（jiā）熱（rè）帶蒸發物質（zhì），使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，並在基片上沉積析出固態薄膜的（de）技（jì）術。

　　濺射鍍膜

　　濺射（shè）鍍膜是真空條（tiáo）件下，在（zài）陰（yīn）極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極（jí），使其射出原子，濺射出的原（yuán）子通過惰性氣氛沉積（jī）到基片上形成膜（mó）層。

　　離子鍍膜

　　即幹式螺杆真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上麵兩種真空鍍膜技（jì）術基礎上發展而來的，因（yīn）此兼有兩者的工藝特點。在（zài）真空條件（jiàn）下，利用氣體放電使工作（zuò）氣體或被蒸（zhēng）發（fā）物質（膜材）部分離化（huà），並在離子轟擊下，將蒸發（fā）物或（huò）其反應物沉積在基片表麵。在膜的形成過（guò）程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。

　　真空卷繞鍍膜

　　真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法（fǎ）在柔（róu）性基體上連（lián）續鍍膜的技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性（xìng）。

　　標簽（qiān）：真空鍍膜電源（yuán）