離子鍍膜原理及種類（lèi）

離子鍍是真空室中，利用氣體（tǐ）放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物（wù）質粒子轟擊作用的同時（shí），將蒸發物或反應物沉（chén）積在基片上。離子鍍把 輝光放電現象、 等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來（lái），不僅能明顯地改進了膜質量，而且還擴大了薄（báo）膜（mó）的（de）應用範（fàn）圍。多弧電（diàn）源其（qí）優點是薄膜（mó） 附著力強，繞射性好，膜材廣泛（fàn）等。D.M.首次提出離子鍍原理，起工作過程是：
　　先將真空室抽（chōu）至（zhì）4×10（-3）帕以上的 真空度（dù），再（zài）接通 高（gāo）壓電源（yuán），在蒸發源與基片之間建立一個低壓氣體（tǐ）放電的 低溫（wēn）等離子區。基片電極接上5KV直流負高壓，從而形成輝光放電陰極。輝光放電去產生的（de）惰（duò）性氣體（tǐ）離子進入陰（yīn）極暗區被電場加（jiā）速並轟擊基片表麵，對其（qí）進行清（qīng）洗。然後計入鍍膜過（guò）程，加熱使鍍料氣（qì）化，起原子進（jìn）入等離子區，與惰（duò）性氣體離子及電子發生碰撞，少部分產生離化。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟擊 鍍層表麵，致使膜層質量得到改善。
　　離子（zǐ）鍍種類很多，蒸發遠加熱方式有電阻加熱、 電（diàn）子束加熱（rè）、等離（lí）子電子束加熱、高頻感應加熱等
　　然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很（hěn）大（dà）的區別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而並不是傳統離子鍍（dù）的輝光放（fàng）電進行沉積。簡單的說，多弧離子鍍（dù）的原理就是把陰極靶作為蒸發（fā）源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從而（ér）在空間中形成 等（děng）離子體，對基體進行沉積。
　　標簽：多弧電源