關於真（zhēn）空鍍膜你了解多少呢？

1、真（zhēn）空蒸發鍍膜法

　　真空蒸發法的原理是：在真空條件下，用蒸發源加熱蒸發（fā）材料，使之蒸發或升華進（jìn）入氣相，氣相粒子流直接射向基片上沉積或結晶形成固態薄膜（mó）；由於環（huán）境是（shì）真空（kōng），因此，無論是金屬還是非金（jīn）屬，在（zài）這種情況下蒸（zhēng）發要比（bǐ）常壓下容易得多。真空（kōng）蒸（zhēng）發鍍膜是發展較早的鍍膜技術，其特（tè）點是：設備相對簡單，沉積（jī）速率快，膜層純度高，製膜材料及被鍍件材料範圍很廣，鍍膜過程可以實現連續化，應用相當廣泛。按蒸發源的不同，主要分為（wéi）：電阻加熱蒸發、電子束蒸發、電弧蒸發和激光蒸發等（děng）。

　　1.1 電阻加熱蒸發法（fǎ）

　　電阻加熱蒸發法就是（shì）采用鎢、鉬等高（gāo）熔點金屬，做成適當形狀的蒸發源，其上裝入待蒸發材料，讓電流通過，對蒸發（fā）材料進行直接加熱蒸發，或者把待蒸發材料放入坩鍋（guō）中進（jìn）行間接加熱蒸發。利用電阻加（jiā）熱器加熱蒸發的鍍（dù）膜（mó）設（shè）備構造簡單、造（zào）價便宜、使用可靠，可用於熔點不太高的材料的蒸（zhēng）發鍍膜，尤其適用（yòng）於對膜（mó）層質量要求（qiú）不太高的大批量的生產中。目（mù）前在鍍鋁製品的生（shēng）產中仍（réng）然大量使用著電阻加熱蒸發（fā）的工藝。電阻加熱（rè）方式的缺點是：加熱所能達到的高（gāo）溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來，為了（le）提（tí）高加熱器的壽命，國內外已采用壽命（mìng）較長的氮化硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器（qì）。

　　1.2 電（diàn）子束蒸發法

　　電子束蒸發法是將蒸發材料放入水（shuǐ）冷銅坩鍋中，直接利用電子束加（jiā）熱（rè），使蒸發材料氣化蒸（zhēng）發後凝結（jié）在基板表麵形成膜，是（shì）真空蒸發鍍膜技術中的一種（zhǒng）重要的加熱方法和發展方向。電子（zǐ）束蒸（zhēng）發克服了一般電阻加熱蒸發的許（xǔ）多缺點，特別適合製作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。

　　1.3 激光蒸發法

　　采用激光束蒸發源的蒸鍍技術是（shì）一種理想的薄膜製備方法。這是由於激光器是可以安裝在真空室之外，這樣不但簡化了（le）真空室內部的空間布置，減少了加熱源的放氣，而且還可完（wán）全避免了蒸發氣對被鍍材料（liào）的汙染，達到了膜層純潔的目的。此外，激光加熱可以達到極（jí）高的（de）溫度（dù），利用激光束加熱能（néng）夠對某些合金或化合物進行快速蒸發。這對於保（bǎo）證（zhèng）膜的成分，防（fáng）止膜的分餾或分解也是極其有（yǒu）用（yòng）的。激光蒸發鍍的缺點是製作大功率連續式激光器的成本較高，所以它的應用（yòng）範圍有一定的限製（zhì），導致其在工業中的廣泛應用有一定的限製。

　　2、真（zhēn）空濺射法

　　真（zhēn）空濺射法是物（wù）理氣相沉積法中的後起之秀。隨著高純靶材料和高（gāo）純氣體製備技（jì）術（shù）的（de）發展，濺（jiàn）射鍍膜技術飛速發展，在（zài）多（duō）元合（hé）金薄膜的製備方麵（miàn）顯示出獨到（dào）之處。其原理為：稀薄的空氣在異常輝光放電產生的（de）等（děng）離子（zǐ）體（tǐ）在電場的作用下，對陰極靶（bǎ）材料表麵進行轟擊，把靶材料（liào）表麵的分子、原子、離（lí）子及電子等濺射（shè）出來，被濺射（shè）出來的粒子帶有（yǒu）一定的動能，沿一定的方法射向基體表（biǎo）麵，在基體表麵（miàn）形成鍍層。特點為：鍍膜層與基材的結合力強；鍍（dù）膜層致密、均勻；設備簡單（dān），操作方（fāng）便，容易控製。

　　主要的濺射方法有直流濺射、射頻濺射、磁控濺射等。目（mù）前應用較多的是磁控濺射法。

　　標簽：真空鍍膜電源