直流磁（cí）控濺射電（diàn）源的濺射技術介紹

直流濺射法要求靶（bǎ）材能夠將從離子（zǐ）轟擊過程中得到的正電荷傳遞給與其緊密接觸的陰極，從而該方法隻能濺射導體材料，不適（shì）於絕緣材料。因為轟擊絕緣靶材時，表麵的離子電（diàn）荷無法（fǎ）中和，這將導致（zhì）靶麵電位升高，外加電壓幾乎都加在靶（bǎ）上，兩極（jí）間的離子加速與（yǔ）電離的機會將變小，甚至不能電（diàn）離，導致不能連續放電（diàn）甚（shèn）至放電停止，濺射停止。故對於絕緣靶（bǎ）材或導電性很差的非（fēi）金屬靶材，須用（yòng）射頻濺射法（fǎ）（RF）。

直（zhí）流磁控濺射電源：　　濺射過（guò）程中涉及（jí）到複雜的散射過程和多種能量傳遞過程：入射粒子與（yǔ）靶（bǎ）材原子發生彈性碰撞，入射粒子的一部分動能會傳給靶材原子；某些靶材原子的動能超過由其周（zhōu）圍（wéi）存在的其它原子所形成的勢壘（lěi）（對於金屬是5-10 eV），從而從晶格點陣中被碰撞出來，產生離位原子；這些離位原（yuán）子進一步和（hé）附（fù）近的原子依次反複碰撞，產（chǎn）生碰撞級聯；當這種碰（pèng）撞級聯到達靶材表麵時，如果靠近靶材表麵的原子的（de）動能大於表麵結（jié）合能（對於金屬是1-6eV），這些原子就會從靶材表麵脫離從而進入真空（kōng）。

標簽：直流磁控濺射電源