真空離（lí）子鍍膜設備的構造有哪些要求

真空離子鍍膜設備是通過對熱量以及來自等離子體的能（néng）量的利用（yòng），在真空環境中將金屬蒸發，使其與反應性氣（qì）體結合，然後將其（qí）用於轟擊基材（cái），終成膜。比之傳統的（de）浸泡鍍膜，它有優越（yuè）的耐磨性（xìng）和粘附性。

　　對於壓力在10??Pa~10??Pa範圍內的真空（kōng）離子鍍膜設（shè）備的設計結構有以下要求：

　　1、電阻值。根據GB/T 11164一99標（biāo）準中（zhōng）的規定，來決定真空室所（suǒ）接不同電位間的（de）絕緣電（diàn）阻值的大小。

　　2、離子轟擊電源。離子鍍膜機通常具有（yǒu）基材負偏壓和離子（zǐ）轟擊電源，離子轟擊電源應具備將非正常放電有效抑製（zhì）的功能，以達到穩定（dìng）的工作狀態。

　　3、基材架。基材（cái）架與真空室（shì）體之間應有絕緣設計，基材架的設計要考慮基材鍍製的膜層均勻（yún）問題。

　　4、加熱係統。加熱係統需要合理的布置，加熱器結構布局要考慮到基材的溫升均（jun1）勻問題（tí）。

　　5、沉（chén）積源。設計離子鍍沉積（jī）源（yuán）要充（chōng）分考慮鍍膜過程中的離化（huà）率問題，將離化率盡可能地提高，同時提高（gāo）了靶材利（lì）用率。沉積源（yuán）的功率要合理匹配，沉（chén）積（jī）源在真空室體的位置同樣需要合（hé）理的布置。

　　6、觀察窗結構。真空鍍膜室設有觀察窗，在（zài）此觀察窗上設置擋板。要求觀察（chá）窗可觀察到沉積源以及其他關鍵部位的工作狀（zhuàng）態。

　　7、蒸汽（qì）與油的捕集。若設備使用的抽氣係統是以擴（kuò）散泵為主泵，則要合理設置油（yóu）蒸氣捕集阱。

　　8、屏（píng）蔽與測量裝置。真空測量規管安裝於低真空和高真空管道上及真（zhēn）空鍍膜室上（shàng），可分別（bié）各部位的真空度進行測量。若電場幹擾了測（cè）量，應（yīng）安（ān）裝電場屏蔽裝置於測量口處，用以阻（zǔ）截（jié）該電場。

　　9、密封裝置的結構。根據GB/T 6070標準中的規定，來決定設備中的真空管道、密封圈、密封法蘭等裝置的結構型式。

　　標簽：多（duō）弧鍍膜電源