真（zhēn）空鍍膜設備的製作方法

真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍:蒸發鍍膜，通過加熱蒸發某種物（wù）質使其沉積在固體表麵（miàn）；濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表麵時能使（shǐ）固（gù）體表麵的粒子獲得能量並逸出表麵，沉積在基片（piàn）上；離子鍍蒸發物質的分子被電子碰撞電離後以離子沉積在固體表麵。這（zhè）三種形式的真空鍍膜技術都需要一種快速（sù）冷卻裝置來輔助真空鍍膜工程。
　　真空設備由於在鍍膜過程中工件處於密（mì）閉的（de）真空環境中，但產品工藝及性（xìng）能卻喪失了很多，現有的（de）真空鍍（dù）膜設備，也（yě）有冷卻（què）裝（zhuāng）置，但其冷卻效（xiào）果不是很理想。不能滿（mǎn）足人們的需要，為（wéi）彌補（bǔ）現有技術不足，提供真空鍍膜設備手套箱蒸鍍一體機，本係統由真空（kōng）鍍膜係統和手套箱係統集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍（dù），並在手套箱高純惰（duò）性氣體氛圍下進行樣品的存放、製備以及蒸鍍後（hòu）樣品的檢測。能保證鍍膜產品工（gōng）藝及性能質量的要求而設置的快（kuài）速冷卻（què）係統，實現自動控製快速冷卻的目的。
　　蒸發鍍膜與手套箱組合（hé），實現蒸鍍、封裝、等工（gōng）藝全封閉製作（zuò），使整個薄膜生長和（hé）器件製備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的係統（tǒng）中，消除有機大麵積電路製備過程（chéng）中大氣環境中不穩定因素影（yǐng）響（xiǎng），保障了高性能、大麵積有機光電器（qì）件和電路的製備。
　　標簽：真空鍍膜電源