真空鍍膜和光（guāng）學鍍膜有什麽區別

      一、概念的區別

　　1、真空（kōng）鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發並凝結（jié）於鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表麵而形成（chéng）薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空（kōng）鍍鉻（gè）等。

　　2、光學鍍（dù）膜是指在（zài）光學零件表麵上鍍（dù）上一層(或多層)金屬(或介質（zhì）)薄膜的工藝（yì）過（guò）程。在（zài）光學零件表麵鍍膜的目的是為了達（dá）到減少（shǎo）或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用（yòng）的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜（mó）。

　　二、原理的區（qū）別

　　1、真空鍍膜是真空應（yīng）用領域的一個重要方麵，它（tā）是以真空技術為基礎，利（lì）用物理或化學方法，並吸收電（diàn）子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一係列新技術，為科學研究和實際生（shēng）產提供薄（báo）膜製備的一種新工藝。簡單地說，在真（zhēn）空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被塗覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固並沉積的方（fāng）法。

　　2、光的幹涉（shè）在薄膜光學中（zhōng）廣泛應用。光（guāng）學薄膜技術的普遍方法是借助真（zhēn）空濺射的（de）方式在（zài）玻璃基（jī）板上塗鍍薄膜，一般用來控製（zhì）基板對入射光束的反射（shè）率（lǜ）和透過率，以滿足（zú）不同的需要。為了消除光學零件表麵的反射損失，提高成像（xiàng）質量，塗鍍一層（céng）或多層透明介質膜，稱為增透膜或減（jiǎn）反射膜。

　　隨著激光技術（shù）的發（fā）展（zhǎn），對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進（jìn）了（le）多層高反射膜（mó）和寬帶增透膜的發展。為各種應（yīng）用需要，利（lì）用高（gāo）反射膜製造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和幹涉濾光片等。光學（xué）零件表麵鍍膜後，光在（zài）膜層層上多次（cì）反射和透射，形成多光束幹涉，控製膜層的折射率（lǜ）和厚度（dù），可以得到不同的強度（dù）分布（bù），這是幹涉鍍膜（mó）的基本（běn）原理。

　　三、方法和材料的區別

　　1、真空鍍膜的方法材料：

　　(1)真空蒸（zhēng）鍍：將需（xū）鍍膜的（de）基體清洗後放到鍍膜室，抽空後將膜料加熱到高溫，使（shǐ）蒸氣達到約（yuē）13.3Pa而使（shǐ）蒸氣分子飛（fēi）到基體表麵，凝結而成薄膜。

　　(2)陰極濺射鍍：將需（xū）鍍膜的基體放在陰極對麵，把惰性氣（qì）體(如氬)通入已抽空的室內，保持（chí）壓強約1.33～13.3Pa，然後將陰極接上2000V的（de）直流電源，便激發輝光放電，帶（dài）正電的氬離子撞擊陰極，使其（qí）射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜（mó）。

　　(3)化學氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化（huà）合物或（huò）有機化合物，獲得沉積薄膜（mó）的過程（chéng）。

　　(4)離子鍍：實質上離子鍍係真空蒸鍍和陰極（jí）濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特（tè）點。表6-9列出了各種鍍膜方法（fǎ）的（de）優缺點。

　　2、光學鍍膜方法材料

　　(1)氟（fú）化鎂：無色四方晶（jīng）係粉末，純度高，用其製光學鍍膜可提高透（tòu）過率，不出崩點（diǎn）。

　　(2)二氧化矽：無色透明晶體，熔點高，硬度（dù）大，化學穩定性好。純度高，用其製備高質量Si02鍍膜（mó），蒸發狀態好，不出現崩點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

　　(3)氧化鋯：白色重質結晶態，具有高的（de）折射率和耐高溫性能，化學性質穩（wěn）定，純度高，用其製備高（gāo）質量氧（yǎng）化鋯鍍（dù）膜，不出崩點。

　　標簽：真空鍍膜（mó）電源