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真空鍍膜機是目前製作真空條件應用為廣泛的設備(bèi),目前生(shēng)活中使用(yòng)到的物品都離不開真空鍍膜行(háng)業。但是許多人都不知道真空(kōng)鍍膜的主要構成部分,接下來讓菠萝视频(men)一起來認識一(yī)下真空鍍膜機的(de)主要構成部分。其中有:真空室、真空獲得(dé)部分、真空測量部分(fèn)、電源供給部(bù)分、工藝氣體輸入係統、機(jī)械傳動部(bù)分、加(jiā)熱及測溫部分、離子蒸發(fā)及濺射源、水冷係統。
1、真空室
塗層設備主要有連續塗層生產線及單室塗層機兩種(zhǒng)形式,不鏽鋼材料製造、氬弧(hú)焊接、表麵進行化學拋光處理,真空室組件上焊有各種規格的(de)法蘭接(jiē)口。
2.真空獲得部分
在真空技(jì)術中,真空(kōng)獲得部分是重要組成部分。真(zhēn)空的獲得不是一種(zhǒng)真空設備和方法所能達到的,必須將幾種泵聯合使用,如機械泵、羅茨泵、分子泵係統(tǒng)等(děng)。
3.真空測量部(bù)分
真空係統的真空測量部分,就是要對真(zhēn)空室內的壓強進行測量。像真空泵一(yī)樣,沒有一種真空計能測量整個真空範圍,人們於是按(àn)不同的(de)原理(lǐ)和要求製成了許多種類的真空計。如熱偶計,電離計,皮拉尼計等等。
4.電(diàn)源供給部分
靶電源主要有直流電源、中頻(pín)電源(yuán)、脈衝電源、射頻(pín)電源(RF),常見的電源廠商有AE,ADL,霍廷格等
5.工藝(yì)氣體輸入係統
工(gōng)藝氣體,如氬氣(qì)(Ar)、氪氣(qì)(Kr)、氮氣(qì)(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧氣(O2)等,一般均由氣瓶供應,經氣體減壓(yā)閥、氣體(tǐ)截止閥、管路、氣(qì)體流量計、電(diàn)磁閥、壓電閥,然後通入真空室(shì)。這種氣體輸入係統的優點是,管路簡捷、明快,維修或更換氣瓶容易。各塗層機之間(jiān)互不影響。也有多台塗層機共用一組氣瓶的情況(kuàng),這種情況在一些規模較大的(de)塗(tú)層車間可能有機會看到(dào)。它的(de)好處是,減少(shǎo)氣瓶占用量,統一規劃(huá)、統一布(bù)局。缺點(diǎn)是,由於接頭增多,使漏氣(qì)機會增加。而(ér)且,各塗(tú)層機之間(jiān)會互相幹(gàn)擾,一(yī)台(tái)塗層機的管路漏氣,有可能會影響到其他塗層機的產品質量。此外,更換氣瓶時,必須保證(zhèng)所有機台都處於非(fēi)用氣狀態(tài)。
6.機械傳動(dòng)部分
塗層要求周邊必須厚度均(jun1)勻一致(zhì),因此,在塗層過程中須有三個轉動量才能滿足要求。即在要求大工件台(tái)轉動(I)的同時,小的工件承載台也轉動( II),並且工件本(běn)身還能同時自轉(III)。在機械(xiè)設計上,一般是(shì)在大工件轉盤底部中央為一大的主動齒輪,周圍是一些小的星行輪與之齧(niè)合,如果要實現產品自(zì)轉的話,一般(bān)用撥叉撥動工件自轉。
7.加熱及測(cè)溫部分(fèn)
塗層設(shè)備一般有不同位置的加熱器,用熱電偶測控溫(wēn)度。但是,由於(yú)熱電偶裝夾的位置與工件位置不同,溫度讀數不可能是工件的真實溫度。要想測得工件的(de)真實溫度,有很多方法,可以在工件上裝高溫試紙或熱偶計。
8.離子蒸發及濺射(shè)源(yuán)
多弧(hú)鍍(dù)的蒸發源一般為圓餅形,俗稱圓餅靶,也有長方形的多弧靶。靶座中裝有磁鐵,通(tōng)過前後移動磁鐵(tiě),改變磁場強度,可調整弧斑移動速度(dù)及軌跡。為了降低靶及靶座的溫度,要給靶座不斷通入冷卻水。為了保證靶與靶座之(zhī)間(jiān)的高導電、導熱性,還(hái)可以在靶與靶座之間加(jiā)錫墊片。
9.水冷(lěng)係統
一般(bān)由(yóu)冷水塔,冰水機,水泵等(děng)組成。
真(zhēn)空鍍(dù)膜機(jī)都離不(bú)開以(yǐ)上的(de)任何一個零件,有這些零件一台真空鍍膜機才算完整,才能正(zhèng)常的運(yùn)行。
標簽:真空鍍膜電源
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