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真空鍍膜是真空應用領域的一個突破性技(jì)術,利用物理或者化學方法並吸收一係列新技術(shù)而成的工(gōng)藝,目的就是為了在實際生產(chǎn)中為產品創(chuàng)造薄膜保護層。工藝主要分為(wéi)真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離(lí)子鍍三種。
為什麽需要進行真空鍍膜呢?這項工藝已經成為了電子元器件製造中的一項不可或缺的技術,主要是為了使產品表麵具有(yǒu)耐磨損耐高(gāo)溫,耐腐蝕等優於產品本身(shēn)的性能,從而提高產品的質量,延長加工產品的使用壽命,不(bú)僅如此,還可以節約能源,獲得更(gèng)為顯(xiǎn)著的技術經濟效益。
實際應用中,菠萝视频往往(wǎng)會根據產品的性質(zhì)來(lái)決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍(dù)主(zhǔ)要用於金屬產品,蒸發鍍主要用於塑膠產品(pǐn),光學離(lí)子鍍主要用於(yú)璃玻產品
標簽:真空鍍膜電源
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