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真空鍍膜是真空應用領域的一(yī)個突破性技術(shù),利用物理或者化學方法並吸收一係列(liè)新技術而成的工藝,目的就是為了在實際生產中為產品創造薄(báo)膜保護層。工藝主要(yào)分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。
為什麽需要進行真(zhēn)空鍍膜呢?這項工(gōng)藝(yì)已經成為了電子元器件製造中的(de)一項不可或缺的技術,主要是(shì)為了(le)使產品表麵具有(yǒu)耐磨損耐(nài)高溫,耐腐蝕等優於產品本身的性能,從而提高產(chǎn)品的質量,延長加工產品的使用壽命,不僅如此,還可以節約能源,獲得更為顯著的技術經濟效益。
實際應用中,菠萝视频往(wǎng)往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍(dù)膜工藝。磁控濺射鍍主要用於金屬產品,蒸發鍍主要用於(yú)塑膠產(chǎn)品,光學離子鍍主要(yào)用於璃玻產品。
標簽:真空鍍膜電源
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