淺談一下離子鍍膜原理及種類有哪些（xiē）？

多弧（hú）電源離子（zǐ）鍍是真（zhēn）空室中，利用氣體放電或被（bèi）蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反應物沉積（jī）在基片上。
　　離子鍍把 輝光放電現象、 等離子（zǐ）體（tǐ）技術和真空蒸發三者有（yǒu）機結合起來，不僅能明顯地改進了（le）膜質量，而且還擴大了（le）薄膜的應（yīng）用範圍。其優點是薄膜 附著力強，繞射性好，膜材廣（guǎng）泛（fàn）等。D.M.首次提出離子鍍原（yuán）理，起工（gōng）作過（guò）程是：
　　先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的（de） 真空度，再接通 高壓電源，在蒸發源與基片之間建立一個低壓氣體放電的 低溫等離子（zǐ）區。基片電極接上5KV直流負高壓，從而形成輝光放電陰極。輝光放電去產生的惰性氣體離子進入陰極暗區被電場加速並轟擊基（jī）片表麵，對（duì）其進行清洗。然後計入鍍膜過程，加熱使鍍料氣化，起原子進（jìn）入等離子區，與惰性氣體離子及電子發生碰撞，少部分產生離化。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟擊 鍍層（céng）表麵（miàn），致（zhì）使膜（mó）層質量得到改善。
　　離子鍍種類很多（duō），蒸發遠加熱方（fāng）式（shì）有（yǒu）電阻加熱、 電子束加熱、等離子電（diàn）子束加熱（rè）、高（gāo）頻（pín）感應加熱等
　　然（rán）而多弧離（lí）子鍍與一般的離子鍍有（yǒu）著很大的區別。多弧離子鍍采用（yòng）的是弧光放電，而並不是傳統離子鍍的輝光放電進行沉積。簡單的說（shuō），多弧離（lí）子（zǐ）鍍的原（yuán）理就是把陰極靶（bǎ）作為蒸發源，通過靶與陽極殼體之間的弧（hú）光放電，使靶材蒸發（fā），從（cóng）而在（zài）空間中形成 等離子體，對基（jī）體進行沉積。
　　標簽（qiān）：多弧電源