離子鍍（dù）膜原理及種類有哪些（xiē）呢？

離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發物質部分離化，在氣體離子（zǐ）或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時，將蒸發物或反（fǎn）應物沉積在基片上。離子鍍把 輝光放電現象、 等離子體技術和真空蒸發三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了（le）膜質（zhì）量，而且還擴大了薄膜的應用範圍。其優（yōu）點是（shì）薄膜 附著力強，繞射性好，膜（mó）材廣泛（fàn）等。D.M.首次提出離子鍍原理，起工作過程是：
　　先將真（zhēn）空室抽至4×10（-3）帕以上的 真空（kōng）度，再接通 高壓電源（yuán），在蒸發源與基片之間建立一個低（dī）壓氣體放電的 低溫等離子（zǐ）區。基片電極接上5KV直流負高壓，從（cóng）而形成輝光放電陰極。輝光放電去產生的惰（duò）性氣體離子進入陰極暗區被電場加速並轟擊基片表麵，對其（qí）進行清（qīng）洗。然（rán）後計入鍍膜過（guò）程，加熱使鍍料氣化，起原子進入等離子區，與惰性氣體離子及電子發生（shēng）碰撞，少部（bù）分產生離化（huà）。離化後的例子及氣體離子以較高能量轟（hōng）擊 鍍層（céng）表麵，致使膜層質量得到改善。
　　離子鍍種類很多，蒸發遠加熱方式有電阻加熱、 電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應加熱等
　　然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大（dà）的區別。多弧離子鍍（dù）采用的是弧（hú）光放電，而並不是傳統離子鍍的（de）輝光放電進行沉積。簡單的說（shuō），多弧離子鍍的原理（lǐ）就是（shì）把陰極靶作為蒸發源（yuán），通過（guò）靶與（yǔ）陽極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發，從（cóng）而在（zài）空（kōng）間中（zhōng）形成 等離子體，對基體進行沉積。
　　標簽：多弧鍍（dù）膜電源（yuán）