簡述關於離（lí）子鍍弧源（yuán）在鍍膜磁場的作用是（shì）什麽呢？

　針對幾種應用於工（gōng）具鍍膜的磁場控製的電弧離子鍍弧源，分析了其結構、工（gōng）作原理以及（jí）弧斑運（yùn）動（dòng）、放電特性；比較了不同磁場輔助（zhù）受控弧源的靶結構及磁場位（wèi）形，並討論了對弧斑運動、放電及鍍膜工藝（yì）的影響；對磁場控製的電弧離子鍍弧源（yuán）的發展進行了展望。

　　提高工具（jù）、模具的加（jiā）工質量和使用壽命一（yī）直是人們不斷探索的課題。電弧離子鍍技術是一種工模具（jù）材料表麵改性技術，具有離化率高、可低溫沉積、膜層質量好以及沉積速率快等（děng）其他鍍膜方式所不具備的優勢，已在現代（dài）工具以及（jí）各種模具的表麵防護取得了（le）理想的應（yīng）用效果。但是，電弧放電導致的大顆粒存在限製了工模（mó）具塗層技術的進一步應用（yòng），也成為後期電弧離子鍍技術發展的主要論題。

　　離子鍍弧源是電弧（hú）等離子體放電的源頭，是離子鍍技術的關鍵部件。電弧離子鍍（dù）采用的弧（hú）源是冷陰極弧源，這（zhè）種（zhǒng）弧源中電弧的行為被陰極表麵許多快速遊動、高度明亮的陰極斑點所（suǒ）控製。在發展和完（wán）善電弧離子鍍技術的過程中，對電弧陰極斑（bān）點運動的有效控（kòng）製至關重要，因為這（zhè）決定了電弧放電的穩定性、陰極靶材的有效利用、大顆粒的去除、薄（báo）膜質量的改善等諸多（duō）關鍵問題的解決。國內外（wài）一直致力於這（zhè）方麵（miàn）的工作，研究熱點主要集中（zhōng）在磁場控製的弧源設（shè）計（jì）上。由於真空電弧的物理特性，外加電磁場是（shì）控製弧斑（bān）運動的有效方法，目前所有的磁場設計都是考慮在（zài）靶麵（miàn）形（xíng）成一定的（de）磁場位形，利用（yòng）銳角（jiǎo）法則限製弧斑的（de）運動軌跡，利用橫向分量提高弧斑的運（yùn）動速度（dù）。

　　理（lǐ）想的磁場設計體現為：一（yī）方麵盡可能擴大磁場橫向（xiàng）分量（liàng）的麵積與強度，另一方麵樶大程度的控製和限製弧（hú）斑的運動（dòng）。由於工具鍍（dù）膜持續時間較長，對（duì）膜層的性能要求較高，工業應用的離子鍍弧源應（yīng）具備以下幾點特性：(1)放電穩定，不（bú）經常滅（miè）弧；(2)弧斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶材利用率（lǜ）高；(4)弧斑細膩，放電功率密度小，大顆粒少；(5)等離子體密度以及離化率高，向工件輸運的等離子體通量足（zú）夠。

標簽：離子（zǐ）源電源