簡述關於離子鍍弧源在鍍膜的磁場的（de）作用是什麽（me）呢？

　針對幾種應用於工具鍍膜的磁場控製的電（diàn）弧離子鍍弧源，分析了其結構、工作（zuò）原理（lǐ）以及弧斑運動、放電（diàn）特性；比（bǐ）較了不同磁場輔（fǔ）助受控弧源（yuán）的靶結構及磁（cí）場位（wèi）形，並討論了（le）對弧斑運（yùn）動、放電及鍍膜工藝的影響；對磁場控製的電弧離子鍍弧源的發（fā）展進行了展望。

　　提高工具、模具的加工質量（liàng）和使用壽命一直是（shì）人們不斷探索的課題。電弧離子（zǐ）鍍技術是一種工模具材料表麵改性技術，具有（yǒu）離化率高、可低溫沉積、膜層質量好（hǎo）以（yǐ）及沉積（jī）速率快等其他鍍膜方（fāng）式所不具備的優勢（shì），已在（zài）現代（dài）工具以及（jí）各（gè）種模具的表麵防護取得了理想的應用效果。但是，電弧放電（diàn）導致的大顆（kē）粒存在（zài）限製了工模具塗層技（jì）術的（de）進一步應用，也成為後期電弧離子鍍技術（shù）發展的主要論題。

　　離（lí）子鍍弧源是電弧等離子體放電的源頭（tóu），是離子鍍技（jì）術（shù）的關鍵部件。電弧（hú）離子鍍采（cǎi）用的弧源是冷陰極弧源，這種弧源中電弧的行為被陰（yīn）極表（biǎo）麵許多快速遊動、高（gāo）度明亮的（de）陰極斑點所（suǒ）控製（zhì）。在發展和完善電弧離子鍍技術的（de）過程中，對電弧陰（yīn）極斑點（diǎn）運動的有效控製至關重要，因為這決定了電弧放電的穩定性、陰極靶材的有效利用、大顆粒的去（qù）除、薄（báo）膜質（zhì）量的改善等諸多關鍵問題的解決。國內外一直致力於這方麵的工作，研究熱點主要集中在（zài）磁（cí）場控（kòng）製的弧源（yuán）設計上。由於真空電弧的（de）物理特性，外加電磁場是控製弧斑運動的有效方（fāng）法，目前所有的磁場設（shè）計都是考（kǎo）慮（lǜ）在靶麵形（xíng）成一定的磁場位（wèi）形，利用銳角法則限製弧斑的（de）運動軌跡，利用橫向分量（liàng）提高弧斑（bān）的運動速度。

　　理（lǐ）想的磁場設計體現為：一方麵盡可能擴大磁（cí）場橫（héng）向分（fèn）量的麵積與強度，另一方麵樶（zuī）大程度的控製和限製弧斑的（de）運動。由於工具鍍膜持續時間較（jiào）長，對膜（mó）層的性能（néng）要求較高（gāo），工業應用的離子鍍（dù）弧（hú）源應具備以下幾點特性：(1)放電穩（wěn）定，不經常滅弧；(2)弧斑運動約束合理，不跑弧（hú）；(3)靶材利用率高；(4)弧斑細膩，放電功（gōng）率密度小，大顆粒少；(5)等離子體密度以及離化率高，向工件輸運的等離子體通量足夠。

標簽：離子源（yuán）電（diàn）源