簡述關於離子鍍弧源在鍍膜中的（de）磁場作用是什麽呢？

針對幾種應用於（yú）工具鍍膜的磁場控（kòng）製的電弧離子鍍弧源（yuán），分析了其結構、工作原理以及弧（hú）斑運動、放電特性；比較了不同磁場輔助受控弧源的靶結（jié）構及磁場位形，並討論了對弧斑運動（dòng）、放電及鍍膜工藝的影響；對磁場控（kòng）製的電弧（hú）離子鍍弧源的發展進行了展望。

離子源電源：提高工（gōng）具、模具的加工質量和使（shǐ）用壽命一直（zhí）是人們不斷探索的課題（tí）。電弧離子鍍技術是一種工模具（jù）材料表麵改性技術，具有離化率高、可（kě）低溫沉積、膜層質量好以及沉積速率快等其他鍍膜方式所（suǒ）不具備的優勢，已在現代工具以及各種模具的表麵防護取得了理想（xiǎng）的應用效果。但是，電弧放電導致的大顆粒存在限製了工模具塗層技術（shù）的進一（yī）步應（yīng）用，也成為後（hòu）期電弧離子鍍技術發展（zhǎn）的（de）主要論題。

　　離子鍍弧源是電弧等離子體放電的（de）源頭，是離子鍍技術的（de）關鍵部件。電弧（hú）離（lí）子（zǐ）鍍采用的弧源是冷陰極弧源，這（zhè）種弧源中電弧的行（háng）為被陰極表麵許多快速遊（yóu）動、高度明亮的（de）陰極（jí）斑（bān）點所控製。在發展和完善（shàn）電弧離子鍍技術的過程中，對電弧陰極斑點運動的有（yǒu）效控製（zhì）至關重要，因為這決定了電弧放電的穩定性、陰極靶材的有效利用、大顆粒的去除、薄膜質量（liàng）的改善等諸多關（guān）鍵問題的解決。國內外一直致力於這（zhè）方麵的工作，研究（jiū）熱點主要集中在磁場控製（zhì）的弧源設計上。由於真空電弧的物（wù）理特性，外加電（diàn）磁場是控製弧斑運動的有效方（fāng）法，目前所有的磁場設計都是考慮在靶麵形成一定的磁（cí）場位形，利用銳角法則限製弧斑的運動軌跡，利用橫向（xiàng）分量提高弧斑的運動速度。

　　離子源電（diàn）源理想的磁場設計體現為：一（yī）方麵盡可能擴大磁場橫向分量的麵（miàn）積與強度，另一方麵樶大程度的控製（zhì）和限製弧斑（bān）的運動。由於工具（jù）鍍膜持續時間較長，對膜層的性能要（yào）求較高，工業應用的（de）離子鍍弧源應具備以下幾點特性：(1)放電穩（wěn）定，不經常滅弧（hú）；(2)弧斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶材利用率高；(4)弧斑細膩，放電功率密度（dù）小，大顆粒少；(5)等離子體密度以及離化率高，向工件（jiàn）輸（shū）運的等離子體通量足夠。