關於直流磁控濺射電源的主要（yào）用途講解

（1）各種功（gōng）能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用（yòng）的薄膜。例如，低溫沉積氮化矽（guī）減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉（zhuǎn）換效率。

　　（2）裝飾領域的應用，如各種（zhǒng）全反射膜及半透明膜等，如手機外殼，鼠標等。

　　（3） 在微（wēi）電子領域（yù）作為一種（zhǒng）非熱式鍍膜（mó）技術，主要應（yīng）用在化學氣相沉積（CVD）或（huò）金屬有機

　　（4）化（huà）學氣相沉積（CVD）生長困難及不適用的材料薄膜（mó）沉積，而且可以獲得大麵積非常均勻的薄膜。

　　（5） 在光學領域：中頻（pín）閉合場非平衡磁控濺射技術也（yě）已在（zài）光學（xué）薄膜（如增（zēng）透（tòu）膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃（lí）等方麵得到（dào）應（yīng）用。特別是透明導電玻璃廣泛應用（yòng）於平板顯示器件、太陽能電（diàn）池、微波與射頻（pín）屏蔽裝置與器件、傳感器（qì）等。

　　（6）在機械加工行業中，表麵功能膜、超硬膜，自潤滑（huá）薄膜的（de）表麵（miàn）沉積技術自問世以來得到（dào）長（zhǎng）足發展，能有效的提高表（biǎo）麵硬度、複合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩定性能，從而大幅度地提高（gāo）塗層產品（pǐn）的使用壽命（mìng）。

　　直流磁控濺射電源除上述已被大量應用的領域，還在高（gāo）溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜（mó）、薄膜發光材料、太陽能電（diàn）池（chí）、記憶合金（jīn）薄膜（mó）研究方麵發揮重要作用。

標簽（qiān）：直流磁控濺（jiàn）射電源