真空鍍膜係統主要構成部分你知道幾個？

      1、真（zhēn）空室

　　塗層設備主（zhǔ）要有連續塗層生產線（xiàn）及單室塗層（céng）機兩種形（xíng）式，不鏽鋼材料製造、氬弧焊接、表麵進行化學拋光處理，真空室組件上焊有（yǒu）各種規（guī）格（gé）的（de）法蘭接口（kǒu）。

　　2、真空獲得部分

　　在真（zhēn）空技術中，真空（kōng）獲得（dé）部（bù）分是重（chóng）要組成部分。真（zhēn）空的獲得不是一種真空設備和方法所能達到（dào）的，必須將幾種泵聯合使用，如機械泵、羅茨泵（bèng）、分子泵（bèng）係統等。

　　3、真空測量部分

　　真空係統的真空測量部分，就是要對真空室內的壓（yā）強進行測量。像真（zhēn）空泵一樣，沒有一種真空計能（néng）測量整個真空範圍，人們於是（shì）按（àn）不同的原理和要求製成了許多種類的真空計。如熱偶計，電離計，皮拉尼計等。

　　4、電源（yuán）供給部分

　　靶（bǎ）電源主要有直流電源（yuán）、中頻電源、脈衝（chōng）電源、射頻電源(RF)，常見的電源廠商（shāng）有AE,ADL,霍廷格等。

　　5、工藝氣體輸入係統

　　工藝氣體，如（rú）氬（yà）氣(Ar)、氪氣(Kr)、氮氣（qì）(N2)、乙炔(C2H2)、甲烷(CH4)、氫氣(H2)、氧（yǎng）氣(O2)等，一（yī）般均由氣瓶供應，經氣體減壓閥、氣體截止閥、管路、氣（qì）體（tǐ）流量計、電（diàn）磁閥、壓電閥，然後通入真空室。這種氣體輸入係統（tǒng）的優點是，管路簡捷、明快，維修或更換氣（qì）瓶容易。各塗層機之間互不影響。也有多（duō）台塗層機共用一組氣瓶的情況，這（zhè）種情況在一些規模較大的塗層車間可（kě）能有機會（huì）看到。它的好處是，減少氣瓶占用量，統一規劃、統一布局。缺點是，由於接頭增多，使漏氣機會增加。而且，各塗層機之間會互相幹擾，一台塗層機的（de）管路漏氣，有可能會影響到其他塗層機（jī）的產品（pǐn）質量。此外，更換氣瓶時，必須保證所有機台都處於非用氣狀態。

　　6、機械傳動（dòng）部分

　　塗層要求周邊必須厚（hòu）度均勻一致，因此，在塗層過程中須有三個轉動量才能滿足要求。即在要求大工件（jiàn）台轉動(I)的同時，小的（de）工件承載（zǎi）台也轉動( II),並且工件本身還能同時自轉(III)。在機械設計上，一般（bān）是在大工件轉（zhuǎn）盤底部中央為一大的（de）主動齒輪，周圍是一些小的星行輪與之齧合，如果要實現產品（pǐn）自轉的話，一般用撥叉撥動工件自轉。

　　7、加熱及測（cè）溫部分

　　塗層（céng）設備一般有（yǒu）不同位置的加熱器（qì），用熱電偶測控溫度。但是（shì），由於熱電偶裝夾的位（wèi）置與工件位置不（bú）同（tóng），溫度讀數不可能是工件（jiàn）的（de）真實溫度。要想測得工件的真實溫度，有很多方（fāng）法，可以在工件上（shàng）裝高溫試紙或熱偶計。

　　8、離子蒸發及濺射源（yuán）

　　多（duō）弧鍍的蒸發（fā）源一般為圓餅形，俗稱圓餅靶，也有長方形（xíng）的多弧（hú）靶。靶座中裝有磁鐵，通過前後移動磁鐵，改變磁場強度，可調整弧斑移動速度（dù）及軌跡。為（wéi）了降（jiàng）低靶及靶座的溫度，要給靶座不（bú）斷通入冷卻水。為（wéi）了保證靶與靶座之間的高導電、導熱性（xìng），還可以在靶與靶座之間加錫墊片。磁控濺射鍍膜一般采用長方形或圓柱形濺射陰極。

　　9、水冷（lěng）係統

　　一般由冷水塔，冰水機，水泵等組成。

　　10、工控係統（tǒng）

　　標簽：多弧鍍膜電源