詳細為大家介紹真空鍍膜應用（yòng）的主要幾種方法

真空鍍膜應用是真空應用中的一個（gè）大（dà）分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以（yǐ）及表麵處理技術等眾多方麵有著（zhe）十分廣泛的應用
　　真空鍍膜應用（yòng），簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨後凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體（tǐ）以（yǐ）及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者（zhě）是覆蓋層。相對於傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬於一種幹式鍍膜，它的主要方法包（bāo）括以下幾種：
　　真空蒸鍍（dù）
　　其（qí）原理是在真空條件（jiàn）下（xià），用蒸發器加熱帶（dài）蒸發物質（zhì），使其氣（qì）化（huà）或升華，蒸發離子流直接射向（xiàng）基片，並在基片上沉積（jī）析出固態薄膜的技術。
　　濺射鍍膜
　　濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電（diàn），激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺（jiàn）射出（chū）的原子通過惰性氣氛沉積到基片（piàn）上形成膜層（céng）。
　　離子鍍膜
　　即幹式螺杆真空泵廠家已經介紹過（guò）的真空離子鍍膜。它是在上麵（miàn）兩種真空鍍膜技術基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點（diǎn）。在真空條（tiáo）件下，利用氣體放（fàng）電使工作氣體（tǐ）或被蒸發物質（膜材）部分離化，並在離子轟擊下，將蒸發（fā）物或其反應物沉積（jī）在基片表麵。在膜的形成過程中（zhōng），基片始終受到高能粒子的轟擊（jī），十分（fèn）清潔。
　　真空卷繞鍍膜（mó）
　　真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基（jī）體上（shàng）連續（xù）鍍膜的（de）技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬（shǔ）性。
　　標（biāo）簽:真空鍍（dù）膜電源