為大家介紹真空鍍膜應用的（de）主要幾種方法

      真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真（zhēn）空環境下，利（lì）用蒸鍍、濺射以及隨（suí）後凝結的辦法，在金屬、玻（bō）璃、陶瓷（cí）、半導體以及塑料件等物（wù）體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對於傳統鍍膜方式，真空鍍（dù）膜應用屬於一種幹式鍍膜，它（tā）的主要方法包括（kuò）以下幾種：

　　真空蒸鍍

　　其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其（qí）氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，並在基（jī）片上沉積析出固態薄膜（mó）的技術。

　　濺射鍍（dù）膜

　　濺射鍍膜是（shì）真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝（huī）光放電，帶正電的氬離子撞擊陰（yīn）極，使其射出原子，濺射出（chū）的原子通過惰性氣氛沉積到基片（piàn）上形成膜層。

　　離子鍍膜

　　即幹式螺杆（gǎn）真空泵廠家已經介紹（shào）過的真空離（lí）子鍍膜。它是在上麵兩種真空鍍膜技術基礎上發展（zhǎn）而來的，因（yīn）此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利（lì）用（yòng）氣（qì）體放（fàng）電使工作氣體或被蒸發物質（膜材（cái））部分離化，並在離（lí）子轟擊下，將蒸發物或其反應物沉積（jī）在（zài）基片表麵。在膜（mó）的形成過程中，基片始終受（shòu）到高能粒子的轟擊，十分清潔。

　　真空卷繞鍍膜

　　真空卷繞鍍膜是（shì）一種利（lì）用物理氣相沉（chén）積的（de）方法在柔性基體上連續鍍膜的技術，以實現（xiàn）柔性基體的一（yī）些功能性、裝飾性屬性。

　　標簽:真（zhēn）空鍍膜電源