了解（jiě）一下真空鍍膜和光學（xué）鍍膜有什麽區別

      一、概念（niàn）的（de）區別（bié）

　　1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其（qí）蒸發並（bìng）凝結於鍍件（jiàn）（金屬、半導體或絕緣（yuán）體）表麵而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻（gè）等（děng）。

　　2、光學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍（dù）上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在（zài）光學（xué）零件表麵鍍膜的目的是為了達到（dào）減少或（huò）增加光的反射、分束、分色、濾光（guāng）、偏（piān）振等要求。常用（yòng）的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。

　　二、原理的（de）區別

　　1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要（yào）方麵，它是以真空技術為基礎（chǔ），利用物理或化學方法，並吸（xī）收（shōu）電子束、分子束、離（lí）子束、等離子束、射頻和磁控等（děng）一係列新技術，為科學研究和（hé）實際生產提供薄膜製備的一種新工藝。簡單地說，在真（zhēn）空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射（shè），使其在被塗覆的物體（稱基板、基片或基（jī）體）上凝固並沉（chén）積的方法。

　　2、光的幹涉在薄膜光學中廣泛應（yīng）用。光學薄膜技術的普遍方法（fǎ）是借助真空（kōng）濺射的方式在玻璃基板上塗鍍薄膜，一般用來控製基板對入射（shè）光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光（guāng）學零件表（biǎo）麵（miàn）的反射損失，提高成像質量，塗鍍一層或多層透明介質膜（mó），稱為增透膜或減反射（shè）膜。

　　隨著激光（guāng）技術的發（fā）展，對膜層的反射率和透過率有不（bú）同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透（tòu）膜的發展。為各種應用需要，利用高反射（shè）膜製造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和幹涉（shè）濾光片等。光（guāng）學零件表麵鍍膜後，光在膜層層上多次反射和透射，形成多（duō）光束幹涉，控製膜層的折射（shè）率和厚（hòu）度，可以得到不同的強度分布，這是幹涉鍍膜的基本原理。

　　三、方法和材料的區別

　　1、真（zhēn）空鍍膜的方法材料：

　　(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體（tǐ）清洗後放到鍍膜室，抽空後將膜料加熱到高溫，使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分（fèn）子飛到基體表麵，凝結而（ér）成（chéng）薄（báo）膜。

　　(2)陰極（jí）濺射鍍：將需（xū）鍍膜的基體放在陰極對麵，把惰性氣（qì）體(如氬（yà）)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然後將陰極接上2000V的（de）直流電（diàn）源，便激（jī）發輝光放電，帶（dài）正電的氬離子（zǐ）撞擊陰極，使其射出原子（zǐ），濺（jiàn）射出（chū）的原子通過惰性氣氛沉（chén）積到基（jī）體上形（xíng）成膜（mó）。

　　(3)化（huà）學氣相沉積：通過（guò）熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉（chén）積薄膜的過程。

　　(4)離子鍍：實質上離子鍍係真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了（le）各種鍍膜方法的優缺點。

　　2、光學鍍膜方法材料

　　(1)氟化鎂：無色四方晶係（xì）粉末，純度高，用其製光學鍍膜可提高透過率，不出崩點。

　　(2)二氧化矽：無色透明晶體，熔點高，硬度（dù）大，化學穩（wěn）定性（xìng）好。純度高，用其製備高質量Si02鍍膜，蒸發狀態好，不出現崩（bēng）點。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

　　(3)氧化鋯：白色重質結晶態，具有高的折射（shè）率和耐高（gāo）溫性能，化學性質穩定，純度高（gāo），用其製備高質量氧化鋯鍍膜，不出崩點。

　　標簽：真空鍍膜電源